Low-temperature post-deposition annealing investigation for 3D
文献类型：期刊论文
| 作者 | Liu M(刘明) ; Ye TC(叶甜春); Li XK(李新开); Han YL(韩宇龙); Jin L(靳磊); Huo ZL(霍宗亮)
|
| 刊名 | Applied Physics A Materials Science & Precessing
 |
| 出版日期 | 2015 |
| 公开日期 | 2016-06-03 |
| 源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/15206]  |
| 专题 | 微电子研究所_存储器研发中心 |
| 作者单位 | 中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu M,Ye TC,Li XK,et al. Low-temperature post-deposition annealing investigation for 3D[J]. Applied Physics A Materials Science & Precessing,2015. |
| APA | Liu M,Ye TC,Li XK,Han YL,Jin L,&Huo ZL.(2015).Low-temperature post-deposition annealing investigation for 3D.Applied Physics A Materials Science & Precessing. |
| MLA | Liu M,et al."Low-temperature post-deposition annealing investigation for 3D".Applied Physics A Materials Science & Precessing (2015). |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。