Impact of BEOL Film Deposition on Poly-Si 3D NAND Device Characteristics
文献类型：会议论文
| 作者 | Huo ZL(霍宗亮); Jin L(靳磊); Hua ZQ(华子群); Li Y(李远); Hu XL(胡小龙); Liu J(刘峻); Zhao YX(赵月新) |
| 出版日期 | 2018-08-15 |
| 源URL | [http://159.226.55.107/handle/172511/19165]  |
| 专题 | 微电子研究所_存储器研发中心 |
| 作者单位 | 1.长江存储科技有限责任公司 2.中国科学院大学 3.中国科学院微电子研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Huo ZL,Jin L,Hua ZQ,et al. Impact of BEOL Film Deposition on Poly-Si 3D NAND Device Characteristics[C]. 见:. |
入库方式： OAI收割
来源：微电子研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。