Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film
文献类型:期刊论文
作者 | Weng LJ(翁立军)1![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
刊名 | Coatings
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出版日期 | 2019 |
期号 | 9页码:227 |
语种 | 英语 |
源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/25898] ![]() |
专题 | 兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心 |
通讯作者 | Gao XM(高晓明); Wang DS(王德生) |
作者单位 | 1.中国科学院兰州化学物理研究所 2.上海宇航系统工程研究所 3.中国空间技术研究院 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Weng LJ,Sun JY,Gao XM,et al. Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film[J]. Coatings,2019(9):227. |
APA | Weng LJ.,Sun JY.,Gao XM.,Hu M.,Dong Y.,...&Fu YL.(2019).Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film.Coatings(9),227. |
MLA | Weng LJ,et al."Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film".Coatings .9(2019):227. |
入库方式: OAI收割
来源:兰州化学物理研究所
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