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Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film

文献类型:期刊论文

作者Weng LJ(翁立军)1; Sun JY(孙嘉奕)1; Gao XM(高晓明)1; Hu M(胡明)1; Dong Y(董毅)2; Wang Y(王燕)3; Wang DS(王德生)1; Jiang D(姜栋)1; Fu YL(伏彦龙)1
刊名Coatings
出版日期2019
期号9页码:227
语种英语
源URL[http://210.77.64.217/handle/362003/25898]  
专题兰州化学物理研究所_先进润滑与防护材料研究发展中心
通讯作者Gao XM(高晓明); Wang DS(王德生)
作者单位1.中国科学院兰州化学物理研究所
2.上海宇航系统工程研究所
3.中国空间技术研究院
推荐引用方式
GB/T 7714
Weng LJ,Sun JY,Gao XM,et al. Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film[J]. Coatings,2019(9):227.
APA Weng LJ.,Sun JY.,Gao XM.,Hu M.,Dong Y.,...&Fu YL.(2019).Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film.Coatings(9),227.
MLA Weng LJ,et al."Low Deposition Temperature-Induced Changes of the Microstructure and Tribological Property of WS2 Film".Coatings .9(2019):227.

入库方式: OAI收割

来源:兰州化学物理研究所

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