一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法
文献类型：专利
| 作者 | 王文辉 ; 唐衍哲 ; 杨艺榕 ; 吴亚明 ; 王跃林 |
| 发表日期 | 2003-10-15 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN1448737 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法，其特征在于利用硅的干法刻蚀和各向异性腐蚀相结合在绝缘层上的硅材料上制作的；具体步骤是：(1)在绝缘层上的硅上生长一层可用于硅的各向异性腐蚀的掩模；(2)在掩模上光刻出制作镜子的窗口；(3)利用步骤(2)中的光刻胶或已经光刻出镜子窗口的掩模作掩模进行硅的干法刻蚀，刻蚀出垂直、相对光滑的镜面；(4)在各向异性腐蚀液中腐蚀，而制成垂直、光滑的镜面。本发明优点在于镜面光滑，可在更小区域内制作面积是足够大镜面；无用区域小以及工艺简单，仅增加一步干法刻蚀工艺。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2003-10-15 |
| 申请日期 | 2003-04-18 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 03116501.X |
| 专利代理 | 潘振甦 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/47853]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王文辉,唐衍哲,杨艺榕,等. 一种垂直光滑的反射型微镜的制作方法. CN1448737. 2003-10-15. |
入库方式： OAI收割
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