一种制备玻璃基硅光波导材料的方法
文献类型：专利
| 作者 | 李广波 ; 杨建义 ; 龙文华 ; 贾科淼 ; 王跃林 |
| 发表日期 | 2005-11-09 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN1693931 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及一种玻璃基硅光波导材料的制备方法。该材料是以玻璃 为衬底，硅为导波层。其制备方法为：将绝缘体上的硅材料(SOI)的顶 层硅和玻璃片的抛光面常规清洗、烘干后进行键合，键合后利用自停止 效应去除SOI硅片的底层硅。该材料和制作工艺的优点是：所制得的光 波导材料的导波层厚度可以从几十纳米到几微米，而且厚度均匀性高； 玻璃作为限制层，限制效果好；键合面在键合之前可以通过各种工艺过 程来实现设定的图案、电极等。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2005-11-09 |
| 申请日期 | 2005-05-20 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 200510026059.9 |
| 专利代理 | 潘振甦 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48171]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李广波,杨建义,龙文华,等. 一种制备玻璃基硅光波导材料的方法. CN1693931. 2005-11-09. |
入库方式： OAI收割
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