一种基于MEMS工艺的可调FP光学滤波器的制作方法
文献类型：专利
| 作者 | 吴亚明 ; 翟雷应 ; 徐静 ; 李四华 ; 钟少龙 |
| 发表日期 | 2011-10-26 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN102225739A |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及一种基于MEMS技术的可调FP光学滤波器的制作方法，其特征在于：采用两次光刻制作出所有图形的刻蚀窗口；采用一次等离子体硅刻蚀完成中间FP空气腔体及可动硅反射镜面结构的制作；采用一次硅-硅键合、等离子体干法刻蚀、HF酸腐蚀二氧化硅层释放工艺制造硅膜可动反射镜；采用硬模板选择蒸镀的方法制作FP腔内两反射镜的高反膜及增透膜；采用一次硅-玻璃键合形成最终的FP腔滤波器。极大地简化了工艺流程，保证了FP腔镜面光洁度和平行度，提高了所制造的FP滤波器的光学技术指标和芯片成品率。与现有的同类产品制作工艺相比具 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2011-10-26 |
| 申请日期 | 2011-04-15 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 201110095547.0 |
| 专利代理 | 潘振甦 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48603]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴亚明,翟雷应,徐静,等. 一种基于MEMS工艺的可调FP光学滤波器的制作方法. CN102225739A. 2011-10-26. |
入库方式： OAI收割
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