全光纤型N×N光开关及制作方法
文献类型：专利
| 作者 | 吴亚明 ; 屈红昌 |
| 发表日期 | 2004-10-27 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN1540374 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及一种全光纤型高速N×N光开关及制作方法，属于光通信领域。其特征在于它输入光纤层、输出光纤层和调制层构成，调制层位于输入光纤层和输出光纤层的重合部位，输入光纤层和输出光纤层之间夹角小于8°，中间添加一层折射率介于1.4-1.5，厚度为8-12um的聚合物层。输入光纤层和输出光纤层的光纤均粘结在V型槽陈列上，光纤直接作为输入和输出的耦合通道。采用化学机械抛光的技术和硅微机械加工工艺，可精确控制工艺，达到精确定位，提高输出和输入的耦合效率。本发明可用于大规模、高速全光交换。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2004-10-27 |
| 申请日期 | 2003-10-31 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 200310108350.1 |
| 专利代理 | 潘振甦 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48703]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴亚明,屈红昌. 全光纤型N×N光开关及制作方法. CN1540374. 2004-10-27. |
入库方式： OAI收割
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