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一种磁性微结构的制作方法

文献类型:专利

作者封松林 ; 王聿佶 ; 金庆辉 ; 程建功 ; 赵建龙
发表日期2008-01-23
专利国别中国
专利号CN101108721
专利类型发明
权利人中国科学院上海微系统与信息技术研究所
中文摘要本发明涉及一种磁性微结构的制作方法,其特征在于包括多层模具的制 作和磁性微结构制作两部分。前者包括用标准RCA清洗工艺清洗硅片,在 硅片表面甩涂多层SU-8光刻胶,前烘,光刻,后烘显影得到多层SU-8模具; 然后本发明通过在多层模具中直接填充磁性粉末,在PDMS芯片铸模成型的 同时,在芯片内部形成磁性微柱结构。利用所提供的制作方法,可以省却电 镀工艺,在微流体芯片内快速地制作磁性微结构。制作微结构高度在几微米 至几百微米之间,由甩涂SU-8光刻胶层数决定,且所述的磁性微结构为微 柱、微线条、微环或微线圈中
是否PCT专利
公开日期2008-01-23
申请日期2007-06-15
语种中文
专利申请号200710042104.9
专利代理潘振甦
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48767]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利
推荐引用方式
GB/T 7714
封松林,王聿佶,金庆辉,等. 一种磁性微结构的制作方法. CN101108721. 2008-01-23.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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