一种纳米结构套刻的模板设计和实现方法
文献类型：专利
| 作者 | 刘彦伯 ; 钮晓鸣 ; 宋志棠 ; 闵国全 ; 周伟民 ; 李小丽 ; 刘波 ; 张静 ; 万永中 ; 封松林 |
| 发表日期 | 2009-02-11 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN101364043 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 上海市纳米科技与产业发展促进中心 ; 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及一种纳米结构套刻的模极设计和实现方法，属于微纳电子领域。其特征在于将不同层结构 定义在同一块模板上，通过特定的改变模板与基底相对位置，重复使用来实现多层纳米结构的套刻。这种 方法不需要配置精密对准系统就可实现纳米级套刻。传统的套刻技术采用精密对准和多块模板，面对纳米 级线宽加工需求，定位对准系统和光刻模板的成本越来越高。即使对于纳米压印这些新型的微纳加工技术， 由于技术本身尚处研发，设备本身匮乏定位能力，对准和模板同样是研发的瓶颈问题。本发明提出的方法， 不仅可以节约多层纳米结构加工研发成本，提 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2009-02-11 |
| 申请日期 | 2007-08-06 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 200710044607.X |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/48921]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘彦伯,钮晓鸣,宋志棠,等. 一种纳米结构套刻的模板设计和实现方法. CN101364043. 2009-02-11. |
入库方式： OAI收割
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