相变存储器存储单元底电极结构的改进及制作实施方法
文献类型：专利
| 作者 | 刘燕 ; 宋志棠 ; 凌云 ; 龚岳峰 ; 封松林 |
| 发表日期 | 2010-02-03 |
| 专利国别 | 中国 |
| 专利号 | CN101640251 |
| 专利类型 | 发明 |
| 权利人 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 中文摘要 | 本发明涉及一种相变存储器存储单元底电极结构的改进以及制作实施方 法，所述的相变存储器存储单元包括顶电极1、顶电极的过渡层2，以及与顶 电极的过渡层2和底电极6接触的相变材料层，其特征在于底电极上端呈探 针式电极结构，探针式电极的针尖7深入相变材料层的内部。探针式电极的 针尖呈等腰三角形。其制作实施方法为采用标准CMOS工艺制备绝缘介质中 的钨底电极，然后采用湿法腐蚀绝缘介质层使钨底电极暴露，再用电化学腐 蚀钨底电极使其形貌为探针状，得到探针式电极和等腰三角形针尖，使W电 极的热量损失降低至19％。 |
| 是否PCT专利 | 是 |
| 公开日期 | 2010-02-03 |
| 申请日期 | 2008-09-27 |
| 语种 | 中文 |
| 专利申请号 | 200810200709.0 |
| 专利代理 | 潘振甦 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49167]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_专利 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘燕,宋志棠,凌云,等. 相变存储器存储单元底电极结构的改进及制作实施方法. CN101640251. 2010-02-03. |
入库方式： OAI收割
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