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离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射研究

文献类型:期刊论文

作者柳襄怀 ; 任琮欣 ; 江炳尧 ; 朱宏 ; 刘炎源 ; 刘静贤
刊名电子学报
出版日期2002
期号05
关键词突发数据通信系统 LEO(低轨道)小卫星通信系统 误捕获 COSTAS环路
ISSN号0372-2112
中文摘要本文利用离子束辅助沉积方法在钼栅极的表面镀上一层碳膜 ,采用模拟二极管的方法测量阴极活性物质Ba、BaO蒸发沉积在镀碳钼栅与纯钼栅表面后的电子发射性能 .测量结果表明 ,镀碳钼栅的电子发射量显著减少 .依据XPS、电子探针对钼栅极表面阴极发射物的分析结果 ,初步探讨了离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射的机制
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49847]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
柳襄怀,任琮欣,江炳尧,等. 离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射研究[J]. 电子学报,2002(05).
APA 柳襄怀,任琮欣,江炳尧,朱宏,刘炎源,&刘静贤.(2002).离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射研究.电子学报(05).
MLA 柳襄怀,et al."离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射研究".电子学报 .05(2002).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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