薄膜锂电池制备工艺现状
文献类型：期刊论文
| 作者 | 杜柯 ; 解晶莹 ; 张宏 |
| 刊名 | 电源技术
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| 出版日期 | 2002 |
| 期号 | S1 |
| 关键词 | 钼栅极 电子发射 离子束辅助沉积 |
| ISSN号 | 1002-087X |
| 中文摘要 | 随着无线电通讯和集成光电路的迅速发展 ,在很多电子设备上都要求有独立的高性能微型电源。薄膜锂电池作为一种重要的微型能源形式 ,正在受到越来越多的关注和研究。概述了国际上目前制备薄膜锂电池的阴极膜、阳极膜和电解质膜过程中所采用的各种工艺手段 ,从工作原理、采用的材料与设备、得到的膜的物理化学性能等各个方面对这些工艺方法进行了分析、比较及评价 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49849]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜柯,解晶莹,张宏. 薄膜锂电池制备工艺现状[J]. 电源技术,2002(S1). |
| APA | 杜柯,解晶莹,&张宏.(2002).薄膜锂电池制备工艺现状.电源技术(S1). |
| MLA | 杜柯,et al."薄膜锂电池制备工艺现状".电源技术 .S1(2002). |
入库方式： OAI收割
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