多孔硅的干燥方法
文献类型:期刊论文
作者 | 虞献文 ; 朱荣锦 ; 朱自强 ; 应桃开 ; 李爱珍 |
刊名 | 半导体学报
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出版日期 | 2003 |
期号 | 06 |
关键词 | PEM燃料电池 电催化剂 助催化元素 氧电极 活性 |
ISSN号 | 0253-4177 |
中文摘要 | 研究了多孔硅的阴极还原表面处理技术 ,通过该技术获得了表面平滑度良好、稳定度高、抗压强度高和耐高温性能好且在空气中可以长期干燥保存的多孔硅样品 .在其表面上可以进行光刻、镀金等工艺 ,因此 ,可应用于制作器件甚至电路集成 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-01-06 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49913] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 虞献文,朱荣锦,朱自强,等. 多孔硅的干燥方法[J]. 半导体学报,2003(06). |
APA | 虞献文,朱荣锦,朱自强,应桃开,&李爱珍.(2003).多孔硅的干燥方法.半导体学报(06). |
MLA | 虞献文,et al."多孔硅的干燥方法".半导体学报 .06(2003). |
入库方式: OAI收割
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