中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析

文献类型:期刊论文

作者陈雷东 ; 曹俊诚 ; 齐鸣 ; 徐安怀 ; 李爱珍
刊名功能材料与器件学报
出版日期2003
期号04
关键词TiMn_(1.2-x)Cr_xV_(0.25)Fe_(0.05)合金 储氢量 平台压力 滞后 斜率
ISSN号1007-4252
中文摘要设计了一种新结构的InGaAs/InP双异质结晶体管(DHBT),其中发射结采用δ掺杂和阻挡层结构,集电极采用N~+掺杂复合结结构。考虑隧穿作用和发射结空间电荷区复合电流的影响,计算了δ掺杂浓度和N~+、n~-层厚度等参数变化对InGaAs/InP DHBT电流、I-V输出特性、电流增益的影响,计算结果表明,随着这些参数值增大,InGaAs/InP DHBT输出特性逐渐改善。当δ掺杂浓度大于2×10~(12)cm~(-3)时,电流增益趋于饱和。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/49989]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
陈雷东,曹俊诚,齐鸣,等. 发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析[J]. 功能材料与器件学报,2003(04).
APA 陈雷东,曹俊诚,齐鸣,徐安怀,&李爱珍.(2003).发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析.功能材料与器件学报(04).
MLA 陈雷东,et al."发射极δ掺杂的InGaAs/InP DHBT的特性分析".功能材料与器件学报 .04(2003).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。