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掺Er-Al_2O_3薄膜发光特性的研究

文献类型:期刊论文

作者肖海波 ; 张峰 ; 张昌盛 ; 程新利 ; 王永进 ; 陈志君 ; 林志浪 ; 张福民 ; 邹世昌
刊名功能材料与器件学报
出版日期2004
期号01
关键词碳氟聚合物 薄膜 纳米摩擦特性 微机电系统
ISSN号1007-4252
中文摘要通过离子束辅助沉积(IBAD)在热氧化SiO2上沉积Al2O3薄膜,在120keV下注入5×1015cm-2Er离子,Ar气氛下773~1273K退火1h。低温下测试PL谱线,随退火温度升高,发光强度上升。973K退火下发光强度特别低,并观察到Si衬底的1140nm峰。光透射谱表明几乎在所有的测试范围内尤其在1530nm处973K退火样品的透射谱强度最强,波导损耗最低。1530nm发光强度随退火温度的变化跟发光强度的变化相反。说明Er离子在514.5nm泵谱吸收界面σ跟Al2O3的光吸收损耗有一定关系。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50182]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
肖海波,张峰,张昌盛,等. 掺Er-Al_2O_3薄膜发光特性的研究[J]. 功能材料与器件学报,2004(01).
APA 肖海波.,张峰.,张昌盛.,程新利.,王永进.,...&邹世昌.(2004).掺Er-Al_2O_3薄膜发光特性的研究.功能材料与器件学报(01).
MLA 肖海波,et al."掺Er-Al_2O_3薄膜发光特性的研究".功能材料与器件学报 .01(2004).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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