光通信用厚膜SOI材料的制备与研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 程新利 ; 林志浪 ; 王永进 ; 肖海波 ; 张峰 ; 邹世昌 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
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| 出版日期 | 2004 |
| 期号 | 04 |
| 关键词 | 微流控芯片 MEMS技术 蛋白检测 电渗流 紫外吸收 |
| ISSN号 | 1007-4252 |
| 中文摘要 | 利用SIMOX技术和硅外延工艺制备了厚膜SOI材料。采用Secco液腐蚀、椭圆偏振仪(SE)、扩展电阻(SRP)等技术对材料的性能进行了表征,分析了外延硅层中缺陷产生的主要原因。外延层电阻率纵向分布均匀,其缺陷主要来源于衬底缺陷延伸和表面的不平整。用制备的厚膜SOI材料制作了脊型光波导并完成了光损耗测试实验,得到了传输损耗为0.4dB/cm的波导结构。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50194]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 程新利,林志浪,王永进,等. 光通信用厚膜SOI材料的制备与研究[J]. 功能材料与器件学报,2004(04). |
| APA | 程新利,林志浪,王永进,肖海波,张峰,&邹世昌.(2004).光通信用厚膜SOI材料的制备与研究.功能材料与器件学报(04). |
| MLA | 程新利,et al."光通信用厚膜SOI材料的制备与研究".功能材料与器件学报 .04(2004). |
入库方式： OAI收割
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