粒子轰击对碳纳米管微结构和场发射性能的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 张继华 ; 冯涛 ; 于伟东 ; 王曦 ; 柳襄怀 |
刊名 | 液晶与显示
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出版日期 | 2004 |
期号 | 03 |
关键词 | 等离子束辅助沉积 光致发光 ZnO薄膜 |
ISSN号 | 1007-2780 |
中文摘要 | 研究了粒子轰击对碳纳米管膜微结构和场电子发射性能的影响。研究结果表明,采用多种等离子体处理碳纳米管能改变其微结构,并显著提高场发射点密度,从而改善场发射性能。随着粒子轰击时间的延长,发射电流先降低,然后又增加甚至超过原始碳纳米管膜的发射电流。我们认为发射性能的变化归功于不同的发射机理:粒子轰击处理后,电子由纳米管尖端发射逐渐变为主要从管体上的纳米瘤发射,致使发射点密度显著增加。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-01-06 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50277] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 张继华,冯涛,于伟东,等. 粒子轰击对碳纳米管微结构和场发射性能的影响[J]. 液晶与显示,2004(03). |
APA | 张继华,冯涛,于伟东,王曦,&柳襄怀.(2004).粒子轰击对碳纳米管微结构和场发射性能的影响.液晶与显示(03). |
MLA | 张继华,et al."粒子轰击对碳纳米管微结构和场发射性能的影响".液晶与显示 .03(2004). |
入库方式: OAI收割
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