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等离子束辅助沉积制备ZnO薄膜的特性研究

文献类型:期刊论文

作者甄万宝 ; 朱世富 ; 赵北君 ; 宋志棠 ; 封松林
刊名四川大学学报(工程科学版)
出版日期2004
期号06
关键词半导体技术 片上天线 非接触式IC卡 数模混合集成电路
ISSN号1009-3087
中文摘要采用等离子束辅助沉积的方法在n-Si(001)衬底上制备出ZnO薄膜。X射线衍射谱显示,所制备的ZnO薄膜有较强的(002)晶面衍射峰,表明ZnO薄膜为c轴择优取向生长的,并且随着退火温度升高,晶粒逐渐增大,衍射峰逐渐增强。光致发光谱测量发现,样品分别在3.28eV和2.48eV存在紫外发射和深能级发射两个较强的发射峰,并且随着退火温度升高,深能级发射逐渐减弱,紫外发射峰得到进一步改善。四探针测试电阻率结果表明,随着退火温度的升高,ZnO薄膜的电阻率呈线性增加。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50373]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
甄万宝,朱世富,赵北君,等. 等离子束辅助沉积制备ZnO薄膜的特性研究[J]. 四川大学学报(工程科学版),2004(06).
APA 甄万宝,朱世富,赵北君,宋志棠,&封松林.(2004).等离子束辅助沉积制备ZnO薄膜的特性研究.四川大学学报(工程科学版)(06).
MLA 甄万宝,et al."等离子束辅助沉积制备ZnO薄膜的特性研究".四川大学学报(工程科学版) .06(2004).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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