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GSMBE InGaP/GaAs材料大面积均匀性研究

文献类型:期刊论文

作者李爱珍 ; 李华 ; 李存才 ; 胡建 ; 唐雄心 ; 齐鸣
刊名稀有金属
出版日期2004
期号03
关键词协调旋转数字计算 基站 数字频率合成器 无杂散动态范围
ISSN号0258-7076
中文摘要报道了气态源分子束外延 (GSMBE)技术生长的Φ5 0mm ,Φ75mmInGaP/GaAs材料的晶体完整性 ,组分均匀性和表面缺陷密度。用PhilipsX Pert′s四晶衍射仪沿Φ5 0mm ,Φ75mmInGaP/GaAs样品的x轴和y轴以 5mm间隔测量ω/2θ双晶摇摆曲线 ,获得沿x轴和y轴方向的晶格失配度分布和组分涨落分布。结果表明 ,用GSMBE生长的Φ5 0mm和Φ75mmIn0 .4 9Ga0 .51 P与GaAs衬底的失配度分别为 1× 10 - 4和 1× 10 - 5,组分波动Φ
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50407]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
李爱珍,李华,李存才,等. GSMBE InGaP/GaAs材料大面积均匀性研究[J]. 稀有金属,2004(03).
APA 李爱珍,李华,李存才,胡建,唐雄心,&齐鸣.(2004).GSMBE InGaP/GaAs材料大面积均匀性研究.稀有金属(03).
MLA 李爱珍,et al."GSMBE InGaP/GaAs材料大面积均匀性研究".稀有金属 .03(2004).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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