中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
旁栅效应对GaAs MESFET数字IC设计的影响

文献类型:期刊论文

作者张有涛 ; 夏冠群 ; 李拂晓 ; 高建峰 ; 杨乃彬
刊名半导体学报
出版日期2005
期号04
ISSN号0253-4177
中文摘要研究了不同旁栅电极结构、不同旁栅电极取向对旁栅阈值特性的影响,并研究了旁栅阈值的光敏特性.结果表明:半绝缘衬底中的电子和空穴陷阱是旁栅效应及其光敏特性的主要原因,Ti/Au/Ti布线金属做旁栅电极具有最好的旁栅阈值特性,Au/Ge/Ni/Au欧姆接触和Ti/Pt/Au/Ti栅金属的旁栅阈值特性相似,三者都有明显的光敏特性.上述结果为GaAsMESFET数字集成电路版图设计规则的制定提供了可靠依据.
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50729]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
张有涛,夏冠群,李拂晓,等. 旁栅效应对GaAs MESFET数字IC设计的影响[J]. 半导体学报,2005(04).
APA 张有涛,夏冠群,李拂晓,高建峰,&杨乃彬.(2005).旁栅效应对GaAs MESFET数字IC设计的影响.半导体学报(04).
MLA 张有涛,et al."旁栅效应对GaAs MESFET数字IC设计的影响".半导体学报 .04(2005).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。