脉冲激光沉积Ti_(50)Ni_(36)Cu_(14)薄膜的成分均匀性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 李亚东 ; 骆苏华 ; 高伟健 |
| 刊名 | 材料科学与工程学报
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| 出版日期 | 2005 |
| 期号 | 01 |
| 关键词 | 环形混频器 共面波导 倒扣 |
| ISSN号 | 1004-793X |
| 中文摘要 | 采用脉冲激光沉积 (PLD)技术制备了Ti50 Ni36 Cu1 4合金薄膜。研究表明 ,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片 靶间距 )、激光脉冲频率有较大关系。当沉积距离 (D)为 2 0～ 30mm时 ,可获得成分均匀稳定的合金薄膜 ;当其它条件相同 ,激光脉冲频率 (F)为 5Hz时 ,合金薄膜与靶成分更为接近。采用PLD技术制备的Ti50 Ni36 Cu1 4合金薄膜成分均匀性较好 ,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体。采用本工艺获得的Ti50 Ni36 Cu1 4薄膜的平均 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50760]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李亚东,骆苏华,高伟健. 脉冲激光沉积Ti_(50)Ni_(36)Cu_(14)薄膜的成分均匀性[J]. 材料科学与工程学报,2005(01). |
| APA | 李亚东,骆苏华,&高伟健.(2005).脉冲激光沉积Ti_(50)Ni_(36)Cu_(14)薄膜的成分均匀性.材料科学与工程学报(01). |
| MLA | 李亚东,et al."脉冲激光沉积Ti_(50)Ni_(36)Cu_(14)薄膜的成分均匀性".材料科学与工程学报 .01(2005). |
入库方式： OAI收割
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