双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文)
文献类型:期刊论文
作者 | 瞿发俊 ; 徐华 ; 吴雪梅 ; 诸葛兰剑 |
刊名 | 功能材料
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出版日期 | 2006 |
期号 | 03 |
关键词 | MEMS 接触平坦化 化学机械抛光 均匀性 凹陷效应 |
ISSN号 | 1001-9731 |
中文摘要 | 用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜,并对薄膜的结构和光致发光(PL)性质进行了研究。XRD和TEM的实验结果表明薄膜是非晶结构;用XPS对样品进行了表征,在397.8eV位置处出现一个对应于N1s的对称峰,表明样品中的N原子主要与Si原子结合,FTIR的实验结果也说明了这一点。光吸收测量结果显示SiOxNy薄膜的光学带隙比Si—SiO2薄膜宽。在225nm波长的激发下,测得在590nm处有强的黄光发射,并利用能带模型讨论了可能的发光机制。 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2012-01-06 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50925] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 瞿发俊,徐华,吴雪梅,等. 双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文)[J]. 功能材料,2006(03). |
APA | 瞿发俊,徐华,吴雪梅,&诸葛兰剑.(2006).双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文).功能材料(03). |
MLA | 瞿发俊,et al."双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文)".功能材料 .03(2006). |
入库方式: OAI收割
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