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双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文)

文献类型:期刊论文

作者瞿发俊 ; 徐华 ; 吴雪梅 ; 诸葛兰剑
刊名功能材料
出版日期2006
期号03
关键词MEMS 接触平坦化 化学机械抛光 均匀性 凹陷效应
ISSN号1001-9731
中文摘要用双离子束溅射法制备了SiOxNy薄膜,并对薄膜的结构和光致发光(PL)性质进行了研究。XRD和TEM的实验结果表明薄膜是非晶结构;用XPS对样品进行了表征,在397.8eV位置处出现一个对应于N1s的对称峰,表明样品中的N原子主要与Si原子结合,FTIR的实验结果也说明了这一点。光吸收测量结果显示SiOxNy薄膜的光学带隙比Si—SiO2薄膜宽。在225nm波长的激发下,测得在590nm处有强的黄光发射,并利用能带模型讨论了可能的发光机制。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50925]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
瞿发俊,徐华,吴雪梅,等. 双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文)[J]. 功能材料,2006(03).
APA 瞿发俊,徐华,吴雪梅,&诸葛兰剑.(2006).双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文).功能材料(03).
MLA 瞿发俊,et al."双离子束溅射制备非晶SiO_xN_y薄膜的强黄光发射(英文)".功能材料 .03(2006).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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