用在可制造性设计中的光刻规则检查
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陆梅君 ; 金晓亮 ; 毛智彪 ; 梁强 |
| 刊名 | 半导体技术
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| 出版日期 | 2006 |
| 期号 | 12 |
| 关键词 | 氮化镓 氢化物气相外延 阳极氧化铝 |
| ISSN号 | 1003-353X |
| 中文摘要 | 可制造性设计(DFM)已经发展成为优化通晓制造技术设计中的有效工具,它包含从理论、规则到工具的整体应用来提升从设计到硅片的流程。基于制程模型的光刻规则检查(LRC),可查出没被设计规则检查(DRC)出来的设计布局的不足之处。本设计把光刻规则检查加入到设计流程中,用来优化设计规则,改善布局更有利光学邻近效应修正,使布局图形有更大的制程窗口。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/50958]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陆梅君,金晓亮,毛智彪,等. 用在可制造性设计中的光刻规则检查[J]. 半导体技术,2006(12). |
| APA | 陆梅君,金晓亮,毛智彪,&梁强.(2006).用在可制造性设计中的光刻规则检查.半导体技术(12). |
| MLA | 陆梅君,et al."用在可制造性设计中的光刻规则检查".半导体技术 .12(2006). |
入库方式： OAI收割
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