表面覆铪改善碳纳米管膜发射性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张继华 ; 王永进 ; 冯涛 ; 于伟东 ; 王曦 ; 杨传仁 |
| 刊名 | 功能材料
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| 出版日期 | 2006 |
| 期号 | 04 |
| 关键词 | 镀钌 氨基磺酸 工艺规范 镀铑 镀钯 |
| ISSN号 | 1001-9731 |
| 中文摘要 | 研究了表面沉积铪膜并进行后处理对碳纳米管膜场电子发射性能的影响。研究结果表明在适当的退火温度下碳纳米管表面形成了碳化铪,并显著提高了碳纳米管的发射电流密度、发射均匀性和发射稳定性。我们认为碳纳米管表面发射性能的提高归功于表面碳化铪膜良好的导电性、化学惰性和低逸出功。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51055]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张继华,王永进,冯涛,等. 表面覆铪改善碳纳米管膜发射性能[J]. 功能材料,2006(04). |
| APA | 张继华,王永进,冯涛,于伟东,王曦,&杨传仁.(2006).表面覆铪改善碳纳米管膜发射性能.功能材料(04). |
| MLA | 张继华,et al."表面覆铪改善碳纳米管膜发射性能".功能材料 .04(2006). |
入库方式： OAI收割
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