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采用新的T型发射极技术的自对准InP/GaInAs单异质结双极晶体管的性能(英文)

文献类型:期刊论文

作者苏树兵 ; 刘训春 ; 刘新宇 ; 于进勇 ; 王润梅 ; 徐安怀 ; 齐鸣
刊名半导体学报
出版日期2006
期号03
关键词二氧化铪 离子束增强沉积 高k电介质
ISSN号0253-4177
中文摘要研究了一种采用新的T型发射极技术的自对准InP/GaInAs单异质结双极晶体管.采用了U型发射极图形结构、选择性湿法腐蚀、LEU以及空气桥等技术,成功制作了U型发射极尺寸为2μm×12μm的器件.该器件的共射直流增益达到170,残余电压约为0·2V,膝点电压仅为0·5V,而击穿电压超过了2V.器件的截止频率达到85GHz ,最大振荡频率为72GHz ,这些特性使此类器件更适合于低压、低功耗及高频方面的应用.
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51067]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
苏树兵,刘训春,刘新宇,等. 采用新的T型发射极技术的自对准InP/GaInAs单异质结双极晶体管的性能(英文)[J]. 半导体学报,2006(03).
APA 苏树兵.,刘训春.,刘新宇.,于进勇.,王润梅.,...&齐鸣.(2006).采用新的T型发射极技术的自对准InP/GaInAs单异质结双极晶体管的性能(英文).半导体学报(03).
MLA 苏树兵,et al."采用新的T型发射极技术的自对准InP/GaInAs单异质结双极晶体管的性能(英文)".半导体学报 .03(2006).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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