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PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究

文献类型:期刊论文

作者李新 ; 唐桢安 ; 徐军 ; 鲍海飞
刊名真空
出版日期2007
期号05
关键词16SrDNA 微阵列芯片 根管致病菌
ISSN号1002-0322
中文摘要微机电系统(MEMS)的研究引起了人们的极大关注,摩擦行为是影响MEMS性能的关键因素之一。本文采用等离子源离子注入(PSII)技术在硅衬底上制备薄膜,利用Raman光谱表征制备薄膜的类金刚石特性。详细介绍了采用原子力显微镜(AFM)进行纳米摩擦实验的原理,并利用其研究制得DLC膜的纳米摩擦特性。研究结果表明,制得DLC膜的摩擦系数较小,具有耐磨损性能,而且反应气体流量对薄膜的纳米摩擦特性有较大影响。PSII技术制备的DLC膜具有较好的纳米摩擦特性,并有望使可动MEMS的摩擦问题得到真正意义上的突破。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51193]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
李新,唐桢安,徐军,等. PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究[J]. 真空,2007(05).
APA 李新,唐桢安,徐军,&鲍海飞.(2007).PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究.真空(05).
MLA 李新,et al."PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究".真空 .05(2007).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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