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气态源分子束外延Al_xGa_(1-x)As(x=0~1)材料中Si的掺杂行为研究(英文)

文献类型:期刊论文

作者李华 ; 李爱珍 ; 张永刚 ; 齐鸣
刊名红外与毫米波学报
出版日期2007
期号01
关键词交流内阻测量法 锂离子电池组 内阻测量 锁相环电路
ISSN号1001-9014
中文摘要研究了Si在AlxGa1-xAs(0≤x≤1)中的掺杂行为.为比较Al組份对Si掺杂浓度的影响,在用气态源分子束外延生长(GSMBE)掺Si n型AlxGa1-xAs(0≤x≤1)的所有样品时,n型掺杂剂Si炉的温度恒定不变.用Hall效应测量外延层的自由载流子浓度和迁移率,用X射线双晶衍射迴摆曲线测量外延层的组份.测试结果表明,当AlxGa1-xAs中Al组份从0增至0.38时,Si的掺杂浓度从4×1018cm-3降至7.8×1016cm-3,电子迁移率从1900 cm2/Vs降至100 cm2/Vs.
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51199]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
李华,李爱珍,张永刚,等. 气态源分子束外延Al_xGa_(1-x)As(x=0~1)材料中Si的掺杂行为研究(英文)[J]. 红外与毫米波学报,2007(01).
APA 李华,李爱珍,张永刚,&齐鸣.(2007).气态源分子束外延Al_xGa_(1-x)As(x=0~1)材料中Si的掺杂行为研究(英文).红外与毫米波学报(01).
MLA 李华,et al."气态源分子束外延Al_xGa_(1-x)As(x=0~1)材料中Si的掺杂行为研究(英文)".红外与毫米波学报 .01(2007).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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