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多孔型氧化铝薄膜在高密度封装中的应用及性能

文献类型:期刊论文

作者朱大鹏 ; 王立春 ; 罗乐
刊名功能材料与器件学报
出版日期2007
期号06
关键词SnAg 孔洞 金属间化合物 回流焊 时效
ISSN号1007-4252
中文摘要利用铝阳极氧化方法对微晶玻璃基板上的多层铝膜进行选择性氧化,制备了4层布线的高密度MCM-D基板,对氧化得到的多孔型氧化铝介质膜的绝缘及介电性能进行了研究。实验结果表明:多层布线铝与氧化铝结合性好,层间和同层多孔氧化铝绝缘电阻分别达到10~9Ω和10~(11)Ω以上;多孔型氧化铝的相对介电常数和损耗分别为5.73和0.022(1 MHz);导带、互连通孔与绝缘层所形成的层间通孔互连结构共面性好,具有良好的电互连性能。多孔型氧化铝介质膜适用于制备高密度MCM—D基板。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51223]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
朱大鹏,王立春,罗乐. 多孔型氧化铝薄膜在高密度封装中的应用及性能[J]. 功能材料与器件学报,2007(06).
APA 朱大鹏,王立春,&罗乐.(2007).多孔型氧化铝薄膜在高密度封装中的应用及性能.功能材料与器件学报(06).
MLA 朱大鹏,et al."多孔型氧化铝薄膜在高密度封装中的应用及性能".功能材料与器件学报 .06(2007).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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