锑化物激光器的研究进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘盛 ; 张永刚 |
| 刊名 | 材料导报
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 期号 | 11 |
| 关键词 | 蚀刻腔条件 SiO2刻蚀 关键尺寸 |
| ISSN号 | 1005-023X |
| 中文摘要 | 锑化物激光器在2～5μm波段具有广阔的应用前景。综述了锑化物激光器的研究进展,重点论述了材料生长、结构设计、器件工艺、封装技术以及新的器件结构,讨论了其中存在的主要技术问题,并指出了锑化物激光器不断向长波长方向扩展的趋势。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51229]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘盛,张永刚. 锑化物激光器的研究进展[J]. 材料导报,2007(11). |
| APA | 刘盛,&张永刚.(2007).锑化物激光器的研究进展.材料导报(11). |
| MLA | 刘盛,et al."锑化物激光器的研究进展".材料导报 .11(2007). |
入库方式： OAI收割
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