Pyrex玻璃的湿法深刻蚀及表面布线工艺
文献类型：期刊论文
| 作者 | 许晓昕 ; 高翔 ; 徐静 ; 吴亚明 |
| 刊名 | 功能材料与器件学报
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| 出版日期 | 2007 |
| 期号 | 06 |
| 关键词 | 超导纳米单光子探测 电阻-温度特性 电流-电压特性 |
| ISSN号 | 1007-4252 |
| 中文摘要 | 高表面质量的pyrex玻璃对提高MEMS器件尤其是光学器件性能至关重要。本文采用TiW/Au+AZ4620厚胶作为多层复合刻蚀掩模,重点研究了玻璃湿法深刻蚀工艺中提高表面质量的方法,并分析了钻蚀和表面粗糙度产生的机理。结果表明,采用TiW/Au+AZA620厚胶的多层掩膜比TiW/Au掩膜能更有效地避免被保护玻璃表面产生针孔缺陷,减轻钻蚀。在纯HF中添加HCl,可以得到更光洁的刻蚀表面,当HF与HCl体积配比为10:1时,玻璃刻蚀面粗糙度由14.1nm减小为2.3nm。利用该工艺,成功实现了pyrex77 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51355]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 许晓昕,高翔,徐静,等. Pyrex玻璃的湿法深刻蚀及表面布线工艺[J]. 功能材料与器件学报,2007(06). |
| APA | 许晓昕,高翔,徐静,&吴亚明.(2007).Pyrex玻璃的湿法深刻蚀及表面布线工艺.功能材料与器件学报(06). |
| MLA | 许晓昕,et al."Pyrex玻璃的湿法深刻蚀及表面布线工艺".功能材料与器件学报 .06(2007). |
入库方式： OAI收割
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