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基于薄膜SOI材料的GaN外延生长应力释放机制

文献类型:期刊论文

作者孙佳胤 ; 陈静 ; 王曦 ; 王建峰 ; 刘卫 ; 朱建军 ; 杨辉
刊名功能材料与器件学报
出版日期2007
期号04
关键词微机械陀螺 x轴 音叉式陀螺 “8悬臂梁-质量块”结构 限制槽 (111)硅晶圆
ISSN号1007-4252
中文摘要本文研究了SOI衬底上采用MOCVD方法生长GaN材料的应力释放机制。采用SIMOX工艺制备的具有薄膜顶层硅的SOI材料作为外延生长的衬底材料,采用MOSS在位检测系统以及拉曼测试作为GaN内部应力的表征手段。结果表明,SOI材料对硅基GaN异质外延中的晶格失配应力和热应力的释放都有显著作用。薄膜SOI材料通过顶层硅与外延层的界面滑移,将一部分晶格失配应力通过界面的滑移释放,并且通过柔性薄膜顶层硅自身的应力吸收作用,将一部分热失配应力转移到衬底,从而有效地降低了GaN外延层的张应力。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51453]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
孙佳胤,陈静,王曦,等. 基于薄膜SOI材料的GaN外延生长应力释放机制[J]. 功能材料与器件学报,2007(04).
APA 孙佳胤.,陈静.,王曦.,王建峰.,刘卫.,...&杨辉.(2007).基于薄膜SOI材料的GaN外延生长应力释放机制.功能材料与器件学报(04).
MLA 孙佳胤,et al."基于薄膜SOI材料的GaN外延生长应力释放机制".功能材料与器件学报 .04(2007).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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