WSi_x沉积前清洗中一种失效现象及改进方法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 孙震海 ; 郭国超 ; 韩瑞津 |
| 刊名 | 半导体技术
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| 出版日期 | 2008 |
| 期号 | 03 |
| 关键词 | 60吉赫 无线通信 宽带 射频 收发机 芯片 |
| ISSN号 | 1003-353X |
| 中文摘要 | 研究并讨论了在WSix制备的前清洗中,用气态氟化氢(HF)清洗时,多晶硅表面有从其体内析出的含磷物,这种析出物很容易跟气态HF中的微量水汽结合,形成HPO3晶体。这样的晶体在Si片表面不容易被检测到,却可以很大程度地影响芯片的良率。本系统观测了这一现象,解释了这种失效的机制,并且给出这种失效模式的解决方案。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51619]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙震海,郭国超,韩瑞津. WSi_x沉积前清洗中一种失效现象及改进方法[J]. 半导体技术,2008(03). |
| APA | 孙震海,郭国超,&韩瑞津.(2008).WSi_x沉积前清洗中一种失效现象及改进方法.半导体技术(03). |
| MLA | 孙震海,et al."WSi_x沉积前清洗中一种失效现象及改进方法".半导体技术 .03(2008). |
入库方式： OAI收割
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