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适用于按比例缩小至亚10nm的圆柱体全包围栅场效应管仿真(英文)

文献类型:期刊论文

作者肖德元 ; 谢志峰 ; 季明华 ; 王曦 ; 俞跃辉
刊名半导体学报
出版日期2008
期号03
关键词电感 π模型 Q值 谐振 衬底损耗
ISSN号0253-4177
中文摘要提出了一种适用于按比例缩小至亚10nm的圆柱体全包围栅场效应管.报道了圆柱体全包围栅场效应管器件物理分析、技术仿真结果以及器件制作详细工艺流程.与其他常规鳍形场效应管器件(FinFET)相比,该器件特别适用于解决常规鳍形场效应管器件所面临的问题,进一步提高器件性能及按比例缩小能力.技术仿真结果显示,圆柱体全包围栅场效应管具备许多常规鳍形场效应管器件,其中包括长方体全包围栅场效应管所不具备的优点.就圆柱体全包围栅场效应管器件结构而言,该器件由无数多个将圆柱体形沟道全部包围的栅所控制.由于克服了由不对称场的积
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51761]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
肖德元,谢志峰,季明华,等. 适用于按比例缩小至亚10nm的圆柱体全包围栅场效应管仿真(英文)[J]. 半导体学报,2008(03).
APA 肖德元,谢志峰,季明华,王曦,&俞跃辉.(2008).适用于按比例缩小至亚10nm的圆柱体全包围栅场效应管仿真(英文).半导体学报(03).
MLA 肖德元,et al."适用于按比例缩小至亚10nm的圆柱体全包围栅场效应管仿真(英文)".半导体学报 .03(2008).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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