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一种封装后释放的准LIGA加工工艺研究

文献类型:期刊论文

作者陆松涛 ; 俞正寅 ; 庞洁 ; 沈时强 ; 杨恒
刊名微细加工技术
出版日期2008
期号03
关键词多孔硅 阴极还原 表面处理技术
ISSN号1003-8213
中文摘要研究了一种准LIGA加工工艺。该工艺利用无氰电铸制作金结构层,采用PECVD制作的无定形硅作为牺牲层,利用二氟化氙(XeF2)干法腐蚀对材料选择性好的特点,采用先部分封装然后腐蚀牺牲层释放结构的工艺流程,避免了封装工艺对可动敏感结构造成的破坏。研究了无氰电铸结构中的应力梯度,发现应力梯度存在随时间缓慢释放的现象,利用热退火消除了结构中的应力梯度。同时还对厚胶光刻、类特氟隆防粘附层制备等关键工艺作了探讨。
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51806]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
陆松涛,俞正寅,庞洁,等. 一种封装后释放的准LIGA加工工艺研究[J]. 微细加工技术,2008(03).
APA 陆松涛,俞正寅,庞洁,沈时强,&杨恒.(2008).一种封装后释放的准LIGA加工工艺研究.微细加工技术(03).
MLA 陆松涛,et al."一种封装后释放的准LIGA加工工艺研究".微细加工技术 .03(2008).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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