SIMOXIDE镁合金无铬化学转化工艺
文献类型：期刊论文
| 作者 | 卫中领 ; 沈钰 ; 李春梅 ; 陈秋荣 ; 黄元伟 |
| 刊名 | 电镀与涂饰
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| 出版日期 | 2008 |
| 期号 | 05 |
| 关键词 | 薄膜厚埋层SOI材料 注氧键合技术 剖面透射电镜 |
| ISSN号 | 1004-227X |
| 中文摘要 | 介绍了SIMOXIDE镁合金无铬化学转化膜的形貌、化学组成及相结构,描述了其成膜过程及电化学特性,给出了生产工艺。SIMOXIDE无铬化学转化膜具有表面电阻低、漆膜附着力高、耐蚀性强的特点,其主要性能达到甚至超过传统铬酸盐转化膜的水平。 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51815]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 卫中领,沈钰,李春梅,等. SIMOXIDE镁合金无铬化学转化工艺[J]. 电镀与涂饰,2008(05). |
| APA | 卫中领,沈钰,李春梅,陈秋荣,&黄元伟.(2008).SIMOXIDE镁合金无铬化学转化工艺.电镀与涂饰(05). |
| MLA | 卫中领,et al."SIMOXIDE镁合金无铬化学转化工艺".电镀与涂饰 .05(2008). |
入库方式： OAI收割
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