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一种新型混合晶向积累型圆柱体共包围栅互补金属氧化物场效应晶体管

文献类型:期刊论文

作者肖德元 ; 王曦 ; 俞跃辉 ; 袁海江 ; 程新红 ; 陈静 ; 甘甫烷 ; 张苗 ; 季明华 ; 吴汉明 ; 谢志峰
刊名科学通报
出版日期2009
期号14
关键词锂离子电池 微结构 X射线衍射 嵌脱锂物理机理
ISSN号0023-074X
中文摘要提出一种新型的工作于积累模式、具有混合晶向的圆柱体共包围栅互补金属氧化物场效应晶体管器件结构.与目前其他报道的CMOS器件相比,NMOS和PMOS器件沟道具有不同的晶向,且均有埋层氧化层将其与衬底隔离,器件结构简单、紧凑,集成度增加了一倍.报道了积累型圆柱体全包围栅场效应管器件物理分析、技术仿真结果以及器件制作详细工艺流程.与其他常规鳍形场效应管器件(FinFET)相比,由于克服了不对称场的积聚,如锐角效应导致的漏电,器件沟道的电完整性得到很大改善.SOI圆柱体全包围栅场效应晶体管在积累工作模式下,电流流
语种中文
公开日期2012-01-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/51946]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
肖德元,王曦,俞跃辉,等. 一种新型混合晶向积累型圆柱体共包围栅互补金属氧化物场效应晶体管[J]. 科学通报,2009(14).
APA 肖德元.,王曦.,俞跃辉.,袁海江.,程新红.,...&谢志峰.(2009).一种新型混合晶向积累型圆柱体共包围栅互补金属氧化物场效应晶体管.科学通报(14).
MLA 肖德元,et al."一种新型混合晶向积累型圆柱体共包围栅互补金属氧化物场效应晶体管".科学通报 .14(2009).

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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