微机械陀螺DRIE刻蚀过程中的局域掩膜效应
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冷悦 ; 焦继伟 ; 张颖 ; 顾佳烨 ; 颜培力 ; 宓斌玮 |
| 刊名 | 传感技术学报
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 08 |
| 关键词 | 电动汽车 动力电池 锂离子电池 储存性能 |
| ISSN号 | 1004-1699 |
| 中文摘要 | 在微机电系统(MEMS)制造中,深反应离子刻蚀(DRIE)过程的精度是影响器件特性的重要因素之一。本文设计了一种完全对称弹性梁结构的模态匹配式陀螺的原型器件,以此为对象研究了局域掩膜图形对于DRIE刻蚀过程的影响。器件的测试结果表明驱动和检测模态有明显的失配,该失配的发生原因除了气体阻尼,更主要来源于驱动和检测结构弹性梁尺寸的工艺偏差。在分析了实验过程及结果的基础上可以认为,除了典型的DRIE滞后效应等因素外,器件结构的局域掩膜效应加剧了工艺偏差:对称弹性梁结构周边的非对称掩膜图形导致了刻蚀气体分布的局部 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/52310]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冷悦,焦继伟,张颖,等. 微机械陀螺DRIE刻蚀过程中的局域掩膜效应[J]. 传感技术学报,2010(08). |
| APA | 冷悦,焦继伟,张颖,顾佳烨,颜培力,&宓斌玮.(2010).微机械陀螺DRIE刻蚀过程中的局域掩膜效应.传感技术学报(08). |
| MLA | 冷悦,et al."微机械陀螺DRIE刻蚀过程中的局域掩膜效应".传感技术学报 .08(2010). |
入库方式： OAI收割
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