小型微纳米图形电子束曝光制作系统(英文)
文献类型：期刊论文
| 作者 | 殷伯华 ; 方光荣 ; 刘俊标 ; 靳鹏云 ; 薛虹 ; 吕士龙 |
| 刊名 | 纳米技术与精密工程
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| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 04 |
| 关键词 | 激光器 自组织 量子点 光谱 气源分子束外延 |
| ISSN号 | 1672-6030 |
| 中文摘要 | 为了满足科学实验过程中对制作半导体器件和微纳米结构的需要,同时避免受到昂贵的工业级电子束曝光(electron beam lithography,EBL)机的条件制约,构建了一种基于普通扫描电子显微镜(scanning electron microsco-py,SEM)的桌面级小型电子束曝光系统.建立了以浮点DSP为控制核心的高速图形发生器硬件系统.利用线性计算方法实现了电子束曝光场的增益、旋转和位移的校正算法.在本曝光系统中应用了新型压电陶瓷电机驱动的精密位移台来实现纳米级定位.利用此位移台所具有的纳米 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-01-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/52604]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 殷伯华,方光荣,刘俊标,等. 小型微纳米图形电子束曝光制作系统(英文)[J]. 纳米技术与精密工程,2010(04). |
| APA | 殷伯华,方光荣,刘俊标,靳鹏云,薛虹,&吕士龙.(2010).小型微纳米图形电子束曝光制作系统(英文).纳米技术与精密工程(04). |
| MLA | 殷伯华,et al."小型微纳米图形电子束曝光制作系统(英文)".纳米技术与精密工程 .04(2010). |
入库方式： OAI收割
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