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PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究

文献类型:会议论文

作者李新 ; 唐桢安 ; 徐军 ; 鲍海飞
出版日期2005
会议名称第十一届全国实验力学学术会议--暨庆祝中国力学学会实验力学专业委员会成立26周年
会议日期2005
关键词类金刚石膜 原子力显微镜 纳米摩擦 等离子源离子注入
中文摘要  本文采用等离子源离子注入(PSII)技术在硅衬底上制备薄膜,利用Raman光谱表征制备薄膜的类金刚石特性.详细介绍了采用原子力显微镜(AFM)进行纳米摩擦实验的原理,并利用其研究制得DLC膜的纳米摩擦特性.研究结果表明,制得DLC膜的摩擦系数较小,具有耐磨损性能,而且反应气体流量对薄膜的纳米摩擦特性有较大影响.PSII技术制备的DLC膜具有较好的纳米摩擦特性,并有望使可动MEMS的摩擦问题得到真正意义上的突破。
会议网址http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_6051048.aspx
会议录第十一届全国实验力学学术会议--暨庆祝中国力学学会实验力学专业委员会成立26周年论文集
语种中文
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/55886]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文
推荐引用方式
GB/T 7714
李新,唐桢安,徐军,等. PSII法制备DLC膜的纳米摩擦性能研究[C]. 见:第十一届全国实验力学学术会议--暨庆祝中国力学学会实验力学专业委员会成立26周年. 2005.http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_6051048.aspx.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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