离子束辅助沉积铪膜耐热应力性能研究
文献类型:会议论文
作者 | 江炳尧 ; 任琮欣 ; 冯涛 ; 蒋军 ; 柳襄怀 |
出版日期 | 2004 |
会议名称 | 第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议 |
会议日期 | 2004 |
关键词 | 钼栅极 电子发射 离子束辅助沉积 行波管 铪膜 耐热应力 工艺条件 |
中文摘要 | 本文采用离子束辅助沉积方法在行波管的钨质栅网上沉积铪膜.在高真空的环境下,模拟行波管的工作条件,对不同设备,不同工艺参数沉积的铪膜进行耐热应力循环试验.应用SEM观察试验样品在高温热处理前后形貌的变化.用AES测量循铪膜的组份.研究分析了铪膜起皮脱落的原因.确定了制备具有良好耐热应力性能铪膜的工艺条件. |
会议网址 | http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_5705624.aspx |
会议录 | 第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议论文集
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语种 | 中文 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/55974] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 江炳尧,任琮欣,冯涛,等. 离子束辅助沉积铪膜耐热应力性能研究[C]. 见:第十三届全国化合物半导体材料、微波器件和光电器件学术会议暨第九届全国固体薄膜学术会议. 2004.http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_5705624.aspx. |
入库方式: OAI收割
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