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浮栅存储器的总剂量辐射效应研究进展

文献类型:会议论文

作者刘张李 ; 张正选 ; 毕大炜 ; 张帅 ; 田浩 ; 俞文杰 ; 陈明 ; 王茹
出版日期2009
会议名称第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会
会议日期2009
关键词控制电路 存储单元 总剂量辐射效应 电荷损失 浮栅存储器
中文摘要本文对浮栅存储器的总剂量辐射效应进行详细分析和讨论,主要内容包括浮栅存储器控制电路和存储单元的总剂量辐射效应。指出:总剂量辐射效应对浮栅存储器的影响主要是在隧道氧化层、栅之间的绝缘层中产生电荷,引起浮栅上电荷的变化。
会议网址http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_7226019.aspx
会议录第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会论文集
语种中文
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/56062]  
专题上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文
推荐引用方式
GB/T 7714
刘张李,张正选,毕大炜,等. 浮栅存储器的总剂量辐射效应研究进展[C]. 见:第十届全国抗辐射电子学与电磁脉冲学术年会. 2009.http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_7226019.aspx.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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