Li掺杂YBCO晶体的交流磁化率及临界电流密度
文献类型：会议论文
| 作者 | 李配军 ; 白忠 ; 王智河 ; 吴王杰 ; 张宏 ; 邱里 |
| 出版日期 | 2009 |
| 会议名称 | 第十届超导学术交流会 |
| 会议日期 | 2009 |
| 关键词 | Li掺杂 YBCO晶体 交流磁化率 临界电流密度 有效激活能 |
| 中文摘要 | 我们测量了Li掺杂YBa2Cu3Oy晶体的交流磁化率,从交流磁化率曲线的实部提取出晶体在临界温度附近的临界电流密度,我们得到临界电流密度与温度的关系为Jc(T)∝(1-T/Tc)1.38,与传统的最大耗散法获得临界电流密度和温度关系相一致.并且讨论了临界温度Tc附近的有效激活能. |
| 会议网址 | http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_7280322.aspx |
| 会议录 | 第十届超导学术交流会论文集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/56078]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李配军,白忠,王智河,等. Li掺杂YBCO晶体的交流磁化率及临界电流密度[C]. 见:第十届超导学术交流会. 2009.http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_7280322.aspx. |
入库方式： OAI收割
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