中国科学院机构知识库网格系统: 约束刻蚀剂层技术最新进展—

文献类型：会议论文


作者	孙建军 ; 黄海苟 ; 田中群 ; 田昭武 ; 蒋利民 ; 罗瑾 ; 穆纪千 ; 叶雄英 ; 周兆英 ; 张涛 ; 孙立宁
出版日期	2000
会议名称	《微米/纳米科学与技术》第5卷第1期
会议日期	2000
关键词	电化学约束刻蚀剂层技术 CEIT
中文摘要	本文简要介绍了电化学应用于微系统技术中的几个例子,着重介绍了约束刻蚀剂层技术(CELT)在微加工方面的最新研究进展,用规整微结构模板对半导体材料的加工刻蚀.
会议网址	http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_61431.aspx
会议录	《微米/纳米科学与技术》第5卷第1期
语种	中文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/56280]
专题	上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文
推荐引用方式 GB/T 7714	孙建军,黄海苟,田中群,等. 约束刻蚀剂层技术最新进展——用于规整微结构图形加工刻蚀[C]. 见:《微米/纳米科学与技术》第5卷第1期. 2000.http://d.wanfangdata.com.cn/Conference_61431.aspx.

入库方式： OAI收割

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