用(XRD)和(TEM)研究碲化物薄膜附着牢固度与其显微结构的关系
文献类型：会议论文
| 作者 | 张素英 ; 范滨 ; 程实平 ; 凌洁华 ; 周诗瑶 ; 王葛亚 ; 施天生 ; 鲍显琴 |
| 出版日期 | 1999 |
| 会议名称 | '99十一省（市）光学学术会议论文集 |
| 会议日期 | 1999 |
| 中文摘要 | 薄膜的附着牢固度是膜层和光学元件的重要指标,它受基板,薄膜的机械性质(如硬度、附着力和应力等)和环境等因素的影响,薄膜牢固度一般是采用液氮和沸水浸泡及玻璃胶纸反复粘贴和撕拉的破坏性工艺试验来测定,但经粘拉试验后,一般完好的膜层或元件均被损坏,这样的工艺试验方法,虽然十分直观有效,但不能找到其内在规律性。 |
| 会议录 | '99十一省（市）光学学术会议论文集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/56346]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张素英,范滨,程实平,等. 用(XRD)和(TEM)研究碲化物薄膜附着牢固度与其显微结构的关系[C]. 见:'99十一省（市）光学学术会议论文集. 1999. |
入库方式： OAI收割
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