扫描电镜动态偏置电压衬度法
文献类型:会议论文
作者 | 唐圣明 ; 林绥娟 |
出版日期 | 1986-08 |
会议名称 | 第四次全国电子显微学会议论文摘要集 |
会议日期 | 1986-08 |
中文摘要 | <正> 目前,越来越多的扫描电镜被用于半导体工业生产中的工艺监控和质量检查。扫描电镜的电压衬度技术则是扫描电镜的独特方法,日益引起人们的重视。按试样的偏置电压的状态来分类,电压衬度方法则可分为二大类:静态偏置电压衬度法和动态偏置电压衬度法。前者是对试样施加一个相对不变的偏置电压(即直流电压);而后者则是对试样施加一个动态偏置电压(即 |
会议录 | 第四次全国电子显微学会议论文摘要集
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会议录出版者 | 中国电子显微镜学会 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/56618] ![]() |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_中文期刊、会议、专利、成果_国内会议论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 唐圣明,林绥娟. 扫描电镜动态偏置电压衬度法[C]. 见:第四次全国电子显微学会议论文摘要集. 1986-08. |
入库方式: OAI收割
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