浅沟道隔离用高活性氧化铈化学机械抛光液研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 王良咏 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 2010 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） |
| 导师 | 宋志棠 |
| 关键词 | 化学机械抛光 浅沟道隔离 CeO2 抛光垫 光学玻璃 |
| 学位专业 | 微电子学与固体电子学 |
| 中文摘要 | 以浅沟道隔离(STI)用CeO2基化学机械抛光(CMP)液为切入点，结合国内抛光液的发展需要，取得了以下创新成果： |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/82610]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王良咏. 浅沟道隔离用高活性氧化铈化学机械抛光液研究[D]. 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） . 2010. |
入库方式： OAI收割
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