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掺Er:Al_2O_3和掺Er:nc-Si/SiO_2材料的制备与表征

文献类型:学位论文

作者肖海波  
学位类别硕士
答辩日期2004
授予单位中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所)  
导师邹世昌 ; 张峰  
关键词掺饵波导放大器 光致发光 Al_2O_3光波导材料 纳米硅 富硅氧化硅  
学位专业微电子与固体电子学  
中文摘要随着全光网络和光子集成技术的发展,掺铒光波导放大器(EDWA:Er Doped Waveguide Amplifier)作为较新的研究领域,正在受到越来越多科研工作者的重视。本论文采用离子束辅助沉积和离子注入法开展了掺Er:Al_2O_3薄膜和掺Er:nc-Si/SiO_2材料的研究。 实验采用离子束辅助沉积和离子注入法制备了掺铒Al_2O_3薄膜,研究了不同退火温度下,样品的成分、结构、表面形貌和化学价态。随退火温度的升高,Er离子被激活,样品的光致发光强度随退火温度升高而上升。样品在700℃退火下,折
语种中文
公开日期2012-03-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/82743]  
专题上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文
推荐引用方式
GB/T 7714
肖海波  . 掺Er:Al_2O_3和掺Er:nc-Si/SiO_2材料的制备与表征[D]. 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所)  . 2004.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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