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SOI的电学性能测试以及低功耗SOI DRAM的设计研究

文献类型:学位论文

作者黎传礼  
学位类别硕士
答辩日期2002
授予单位中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所)  
导师俞跃辉 ; 邹世昌  
关键词电学性能:6794 低功耗:4331 设计研究:4272 SOI材料:3668 SOI技术:1176 体硅电路:797 抗辐照:730 耐高温:534 模拟仿真:511 外围电路:500  
学位专业微电子学与固体电子学  
中文摘要与传统的体硅电路比较起来,SOI电路具有高速、低压、低功耗、抗辐照、耐高温等优点。但是由于SOI材料的制作成本比较高,所以原来它的应用主要局限在军工,航空航天等领域来制作耐高温和抗辐照电路,随着SOI衬底技术的发展,SOI园片的成本不断降低,使得SOI进入民用成为可能。随着移动通信、手提电脑等便携式电子产品的发展,集成电路在功耗和体积方面的要求越来越高,SOI将成为实现低压、低功耗的主流技术。所以,对于SOI材料,器件,电路测试,模拟仿真,设计,工艺方面的研究就显得非常的重要 本论文的主要工作分为三个部分
语种中文
公开日期2012-03-06
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/82973]  
专题上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文
推荐引用方式
GB/T 7714
黎传礼  . SOI的电学性能测试以及低功耗SOI DRAM的设计研究[D]. 中国科学院研究生院(上海微系统与信息技术研究所)  . 2002.

入库方式: OAI收割

来源:上海微系统与信息技术研究所

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