先进喷射清洗工艺去除颗粒污染的理论和实验研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 孙震海 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 2008 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） |
| 导师 | 邹世昌 |
| 关键词 | 喷射清洗 滴撞击 拖拽力 升力 表面浸润性 |
| 学位专业 | 微电子学与固体电子学 |
| 中文摘要 | 清洗工艺是集成电路制造中重复频率最高的步骤，随着器件的不断微缩，清洗工艺对器件的影响越来越明显，对清洗工艺的精确控制成为器件进一步微缩的必要条件。应用于超深亚微米（90nm以下）的清洗工艺，在保证高的清洗效率的前提下，必须减少对基底的化学蚀刻和避免对器件图形的物理损伤。对微液滴喷射清洗的作用机制的研究是半导体清洗工艺中重要的课题。本论文首先讨论了传统的化学清洗的原理和其局限性，借助物理力清除颗粒是半导体清洗工艺的发展趋势。在实际应用中，微液滴喷射清洗相对超声波清洗有其自身的优势，清洗均匀性较高并且可以控制 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-06 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/83112]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙震海. 先进喷射清洗工艺去除颗粒污染的理论和实验研究[D]. 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） . 2008. |
入库方式： OAI收割
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