超深亚微米工艺条件下基于模型的光学临近效应修正方法的研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 朱亮 |
| 学位类别 | 博士 |
| 答辩日期 | 2009 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） |
| 导师 | 邹世昌 |
| 关键词 | 分辨率增强技术 光学邻近效应修正 可制造性设计 亚分辨率辅助图形 光学和工艺邻近效应修正 |
| 学位专业 | 微电子学与固体电子学 |
| 中文摘要 | 随着100nm以下技术节点图形化工艺被引入半导体工业中，分辨率增强技术（Resolution Enhancement Technique，RET）诸如光学邻近效应修正（Optical Proximity Correction，OPC）已成为修复物理设计者和光刻工程师之间沟通隔阂的标准方法。另一方面，可制造性设计（Design for Manufacturing，DFM）的理念也作为关键词被光刻和OPC技术反复提及，它减轻了设计和制造之间的复杂交互。 本论文在OPC前提出了可整合的RET方法，包括基于工艺窗 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2012-03-06 |
| 页码 | 100 |
| 源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/83178]  |
| 专题 | 上海微系统与信息技术研究所_微系统、冶金所学位论文_学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱亮. 超深亚微米工艺条件下基于模型的光学临近效应修正方法的研究[D]. 中国科学院研究生院（上海微系统与信息技术研究所） . 2009. |
入库方式： OAI收割
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